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半导体工艺真空主要用在蒸发，溅射，PECVD，真空干法刻蚀， 真空吸附，测试设备，真空清扫等等键合工序，半导体生产制造过程中容易产生易燃易爆以及有害的物质气体，会对生产及人员安全造成威胁，因此，半导体真空泵应用时需要注意的几个安全事项：1、定期清洗真空泵及其他附件、过滤、管道，避免超压。半导体真空泵应用时，抽取介质过程中经过反应室与真空泵，其成分可能极为复杂，可能堵塞真空泵或管路系统，影响真空泵性能，造成压力上升或超压，所以需要及时的清洗，并在必要的时候设置过滤设备。2、有效稀释有害气体的浓度。半导体易产生前面所说的易燃易爆、有害的有害气体，因此半导体真空泵在抽取这些介质时，需要用氮气之类的惰性气体，福建节能真空泵选型，在压缩前即将这些气体稀释到当时条件下的安全范围。3、注意氧气的浓度。空气中的氧如果浓度过高也会发生燃烧及易爆风险。所以一些情况下需注意氧的浓度，采用惰性气体来稀释，防止浓度过高。4、防止温度过高。半导体在真空泵的应用中，福建节能真空泵选型，有害气体比较多，而无论是干式真空泵还是油封机械泵，泵腔内温度过高，高温下易燃易爆及有害气体就会容易发生危险，福建节能真空泵选型。作为一家年轻和富有活力的气体装备公司，昊青向业内成熟品牌看齐，对标其产品性能和服务品质。福建节能真空泵选型
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前面我们讲的都是粗真空。但对于制造极其微小的结构，则需要高真空，例如，利用高真空使金属沉积到硅晶片上。一方面，所用金属沸点相对较低。另一方面，即使是再小的夹杂物，甚至是空气气体分子，也会损害薄片层的导电性。离子注入也是如此，在此工艺中，离子在电场中加速运动，被引导到晶片上并置于晶格中。没有真空，EUV 光刻也就无从实现。作为相对较新的工艺，EUV 光刻使用波长非常短的极紫外光来显示晶片上特别小的结构。EUV 光传播几毫米后就会被空气完全吸收。只有在真空度非常高时，它才能畅通无阻地传播。此技术和类似方法是很多芯片技术发展的先决条件，例如，让我们的智能手机变得越来越薄，同时提供不断增强的性能，如果没有高真空度的辅助，都是不可能实现的。
根据真空度高低和真空泵不同，真空吸送可分高真空吸送和低真空吸送。高真空吸送一般多采用喷射泵、水环泵为动力源，系统的真空度较高，一般为5*104Pa-3*104Pa，气流量也较小，国内sz-4水环真空泵在真空度为60%时，理论空气流量只有660m3/h。低真空吸送一般多采用离心风机和通风机为动力源，系统的真空度较低，一般在9*104Pa-8*104Pa，所以输送距离较近，不超过5Om，但风量较大，如经常采用的7一17一91/2风机，风量可达1800m3/h。真空吸送在国内外已经得到普遍的应用，从大型轮船的装卸到冶金、铸造工厂散状物料以及面粉厂、啤酒厂的运输、集尘、清灰、灰处理等，总之只要有散状料运输和处理的地方均可采用这种方法。资料报导国外已将真空吸送装置在专门厂家生产，并将整个系统定型部件做到标准化、系列化。如果是金属精密加工，要对切削液进行分离，切削液不能进入真空泵里。
真空泵选择的依据和条件。（1）系统对真空度的要求。根据系统对真空度的要求，选择相应极限真空的泵。一般要求泵的极限真空比系统要求的极限真空高0.5~1个数量级。（2）系统正常工作时的压力范围。要求泵正常工作的压力范围必须满足系统所要求的工作压力。（3）被抽气体种类、成分、杂质情况及系统工作时对污染的限制要求。被抽气体性质及对污染的要求是选择不同特性真空泵的一个重要条件。它不但与工作时泵的性能有关，而且直接与泵的工作寿命及检修维护情况有关，特别是在化工生产中，它往往是正确选泵的一个关键因素。（4）系统被抽气量或体积流量。它是决定选择某一类型真空泵的主要依据。真空泵使用前应了解被抽气体成分，气体中含不含可凝蒸气、有无颗粒灰尘、有无腐蚀性等。福建节能真空泵选型
几种常见的真空泵是我国国民经济各行业应用真空工艺过程中必不可少的主力泵种。福建节能真空泵选型
真空泵的选择及抽速计算。（1）计算真空泵的有效抽速S(L/s)。根据真空系统要求的工作压力pg、真空系统的总气体量Q，计算泵的有效抽速。S＝Q/pg。式中，Q为真空系统的总气体量，Pa.L/s,包括真空系统工作过程中产生的气体量、真空系统及真空元件的放气量和真空系统的总漏气量。通常将按此式计算出的有效抽速S增大20%~30%或更大作为主泵的名义抽速。（2）确定真空泵的抽速。根据有效抽速S以及泵与真空室之间的连接管道的流导U确定主泵的抽速Sp。由流导串联公式有1/S＝1/Sp+1/U。（3）根据被抽气体种类、成分、温度以及气体含灰尘杂质情况选真空泵。（4）根据真空室对油污染要求的不同,来选择有油、无油、半无油、干式、湿式真空泵。干式真空泵适合于要求无油或工作液、或对工作液储存和处理费用比较关切等场合。（5）根据投资及日常维护运转的经济指标来选择。福建节能真空泵选型
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